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TMAL（三甲基铝）
半导体行业：用作金属有机化学气相沉积（MOCVD）和原子层沉积（ALD）中生产含铝薄膜的前驱体。
催化剂：作为齐格勒-纳塔聚合中的助催化剂，用于生产聚烯烃（如聚乙烯、聚丙烯）。
所属分类：
- 产品描述
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- 商品名称: TMAL（三甲基铝）
半导体行业：用作金属有机化学气相沉积（MOCVD）和原子层沉积（ALD）中生产含铝薄膜的前驱体。 催化剂：作为齐格勒-纳塔聚合中的助催化剂，用于生产聚烯烃（如聚乙烯、聚丙烯）。
化学名称: TMAL（三甲基铝）
形态: 无色液体（自燃性，暴露于空气中会自发点燃）
成分： 有机铝化合物
其他名称: TMAL，三甲基铝，三甲基铝（另一种拼写）
分子式： Al(CH₃)₃ 或 Al₂(CH₃)₆（二聚体形式）
分子量： 72.08 克/摩尔（单体），144.17 克/摩尔（二聚体）
CAS 号： 75-24-1
应用:
半导体行业：用作金属有机化学气相沉积（MOCVD）和原子层沉积（ALD）中制备含铝薄膜的前驱体。
催化剂：作为齐格勒-纳塔聚合中的助催化剂，用于生产聚烯烃（如聚乙烯、聚丙烯）。
有机合成：用作甲基化试剂和还原剂，应用于特种化学品合成。
火箭燃料：有时用作航空航天应用中的点火源或自燃燃料。
LED 和太阳能电池：制造氮化镓（GaN）LED 和薄膜太阳能电池的关键材料。
包装:
50公斤不锈钢气瓶，充惰性气体（氮气/氩气）以防止点燃。
储存:
在惰性气氛（氮气/氩气）下储存，防止接触空气/水分。
远离氧气、水和易燃物。
存放在阴凉、干燥、通风良好的地方，并采取防火安全措施。
如需温度控制，使用防爆冰箱。
关键词： TMAL（三甲基铝）
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